Foundry Service
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•Foundry Service

 M2N은 MEMS 및 나노 공정 서비스에서 2001년 이후의 풍부한 경험과 노하우를 바탕으로 고객의 요구에 맞는 공정 개발 및 제조를   도와드리며, 이를 바탕으로 시제품의 제작 및 양산을 진행합니다.
 제조설비에 대해 다양한 인프라가 구축되어 있으며, ISO 9001: 2015, IATF 16949 등 세계 품질경영 표준을 준수, 신뢰할 수 있는   Foundry Service를 제공합니다.


•Our Production Infrastructure
 - Clean Room (~500m^3,  class 100~1000)
 - One stop MEMS fabrication  process (6 inch wafer)

Photolithography

 - Aligner (backside)
 - Track
 - Spin coater

Etching

- Deep Si Etcher
 - RIE
 - ICP Metal Etcher
 - Asher
 - Wet Station
 - KOH Bath
 - Dicing Saw

Deposition

 - PECVD
 - LPCVD
 - Oxidation Furnace
 - Sputter

Etching

 - Microscope (CD)
 - Nano Spec.
 - Probe Station
 - Surface Profiler
 - Three dimension coordinate measuring machine

‌•M2N’s Key Enabling Technology

‌‌•Deep Si Etching Technique

Comb (SOI Wafer) (less notching)

 

High aspect ratio structure

 

2step trench

 

Through hole

 

‌‌•Micro & Nano Structure using Dry & Wet Silicon Etch

Silicon AFM Probe

 

‌‌•3D Electrode Patterning

Au layer

 

•‌We offer three types of foundry services

제품에 대해 궁금하신 사항이 있는 경우, 문의를 주시면 빠른시일 내로 답변 드리겠습니다.
감사합니다.


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